废气处理设备的类型

废气处理设备的类型

 

废气处理设备分为吸收设备、吸附设备、催化燃烧设备和等离子体处理设备。废气处理设备的类型简述如下。

吸附设备吸附法是利用低挥发性或非挥发性溶剂吸附VOCs，然后利用VOCs与吸附剂物理性质的差异来分离VOCs。

含VOCs的气体从吸收塔底部进入吸收塔，在上升过程中与吸收塔***部的吸收剂逆流接触。净化后的气体从塔***排出。吸收剂吸收的VOCs经过换热器后进入汽提塔***部，当温度高于吸收温度或压力低于吸收压力时脱附。脱附的吸收剂由溶剂冷凝器冷凝，然后返回吸收塔。在通过冷凝器和气液分离器后，脱附的挥发性有机化合物以纯挥发性有机化合物的形式离开汽提塔进行回收。该工艺适用于高VOCs浓度、低温的气体净化，其他条件需要相应调整。

当一种流体混合物被吸附设备用多孔固体材料处理时，流体中的一种成分或某些成分会吸附在表面并集中在上面，这就是所谓的吸附。用吸附法处理废气时，吸附对象是气态污染物，即气固吸附。吸附的气体成分称为吸附剂，多孔固体材料称为吸附剂。

吸附质吸附到固体表面后，一部分吸附质可以从吸附剂表面分离出来。吸附一段时间后，由于表面吸附质浓度增加，吸附容量明显降低，需要吸附净化。此时，应采取措施脱附吸附剂上的吸附质，以提高吸附能力。这个过程叫做吸附剂再生。因此，在实际的吸附项目中，从废气中去除污染物，回收废气中的有用成分，是一个吸附-再生-反复吸附的循环过程。

催化燃烧设备中的燃烧是处理高浓度挥发性有机化合物和恶臭化合物的有效方法。原理是用过量的空气燃烧这些杂质，***部分产生二氧化碳和水蒸气，可以排放到***气中。然而，在处理含氯和硫的有机化合物时，燃烧产物中的HCl或SO2需要进一步处理。

等离子体处理设备中的等离子体是一种电离气体。它的英文名是plasma。1927年，当缪尔研究低压汞蒸气中的放电现象时，他将其命名为。等离子体由***量电子、中性原子、受激原子、光子和自由基组成，但电子和正离子的电荷数必须是电中性的，这就是等离子体的含义。等离子体在导电和受电磁影响方面不同于固体、液体和气体，因此被称为物质的***四种状态。根据等离子体的状态、温度和离子密度，可分为高温等离子体和低温等离子体。其中高温等离子体电离度接近1，各种粒子温度几乎相同，系统处于热力学平衡。它主要用于受控热核反应的研究。低温等离子体处于非平衡状态，各种粒子的温度不同。电子温度(te)ge；离子(TI)的温度可以达到104k以上，而离子和中性粒子的温度可以低至300 ~ 500 K，一般气体电子发射体属于低温等离子体。

直到2013年，低温等离子体的机制被认为是非弹性粒子碰撞的结果。低温电离富含电子、离子、自由基和激发态分子，其中高能电子与气体分子(原子)碰撞，将能量转化为基态分子(原子)的内能，产生激发、离解、电离等一系列激活态。一方面打开气体分子键，形成一些单分子和固体粒子；另一方面，它产生自由基，如Oh、H2O2和高氧化性O3。在这个过程中，高能电子起决定性作用，而离子的热运动只有副作用。在***气压下，气体放电产生的高度不平衡等离子体的电子温度远高于气体(约100℃)。非平衡等离子体中可能发生各种化学反应，主要由电子平均能量、电子密度、气体温度、有害气体分子浓度和气体成分决定。也可用于低浓度、高流量、***风量的挥发性有机污染物和含硫污染物的处理。

产生等离子体的常用方法是气体放电。气体放电是指电子通过某种机制从气体原子或分子电离出来，形成的气体介质称为电离气体。如果电离气体是由外部电场产生的，并形成导电电流，这种现象称为气体放电。根据放电机理、气体压力源的性质和电极的几何形状，气体放电等离子体可分为以下几种形式:1.辉光放电；2.介质阻挡放电；3.射频放电；4.微波放电。无论产生什么样的等离子体，都需要高压放电。它很容易点燃并造成危险。对于气态污染物的处理，一般要求在常压下进行。

光催化生物净化设备

光催化是一种室温下的深度反应技术。光催化氧化可以在室温下将水、空气和土壤中的有机污染物完全氧化成无毒无害的产品。然而，传统的高温燃烧技术需要在极高的温度下销毁污染物。即使采用传统的催化氧化法，也需要几百度的高温。

理论上，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能量，就足以激发电子和空穴，半导体可以作为光催化剂。常见的单组分光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如Ti0。Zn0，ZnS，CDs，PBS。这些催化剂对于***定的反应具有突出的***势，可以根据具体的研究需要进行选择。比如CdS半导体，其带隙能量更小，与太阳光谱中的近紫外波段匹配性能更***。它可以很***地利用自然光能，但容易受到光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，二氧化钛具有******的综合性能，是应用和研究***广泛的单组分光催化剂。